中国光刻机前沿信息_光刻机国产最新消息(2024年12月实时热点)
综述 近年来,中国在半导体领域的发展迅速,尤其在DUV光刻机领域的技术突破,引起了国际社会的广泛关注。 在众多讨论中,一则美国网友发出的“没有得到美国的允许,为何中国敢私自研发DUV光刻板”的留言,一定程度上折射出美国对中国光刻机领域的发展并不支持。 那么,在美国对中国实施技术封锁和出口管制的大背景下,中国为何能够在没有美国允许的情况下,独立研发出DUV光刻机?这背后不仅是技术积累的成果,更反映了中国在高端制造业崛起的决心。 光刻机介绍 光刻机(Photolithography Machine),作为制造半导体芯片的关键设备,其作用原理有点类似于我们生活中接触到的摄像,把拍到的照片事物印在底片上,即利用光线把光罩上的图案复刻在光刻板上,形成电路图案。 关于光刻机的精度,它直接决定了芯片的制程节点(即芯片的微小尺寸)。因此,光刻机也被誉为半导体产业的“皇冠上的明珠”。 光刻机的出现可以追溯到上世纪四十年代,目前主要根据所使用的光源波长进行分类,最常见的是深紫外线DUV(Deep Ultraviolet Lithography)和极深紫外线EUV(Extreme Ultraviolet Lithography),前者广泛应用于28纳米至7纳米的芯片制造,而后者主要用于制造7纳米及以下工艺节点的芯片, 全球主要的光刻机制造商是荷兰的ASML,它几乎垄断了EUV光刻机的市场。而DUV光刻机市场则由ASML、尼康(Nikon)和佳能(Canon)等公司占着大部分份额。 由于技术壁垒极高,研发难度大和成本高,拥有光刻机的研发和生产工艺会被认为是一个国家具有最先进制造业的代表象征之一。 中国光刻机的发展与挑战 中国的光刻机研发并非一蹴而就,而是经过了多年的技术积累。首先,中国的半导体产业起步较晚,后来尽管中国在芯片设计和制造的其他方面取得了不少成就,在光刻机领域却发展十分缓慢。 随着国家对半导体产业的战略重视,光刻机的研发也逐渐被纳入了国家级科技攻关重点,由此光刻机得到迅速发展。 在上世纪七十年代,中国成功研制出了国内第一台光刻机,并且后面几十年内一直不断在寻求突破,研究方面积累了相当的经验成果。以2018年中国科学院光电技术研究所研制的“超分辨光刻装备”通过验收为例,在当时就颇受关注,可见中国光刻机领域的发展实力不可小觑。 与此同时,我们要知道当时美国长期以来对中国的技术进步保持警惕态度,尤其是在半导体和高科技领域。 在光刻机技术上,美国曾通过控制关键技术、出口管制等手段限制中国的技术发展。2018年,美国政府更是将ASML等公司列入实体清单,禁止它们向中国提供EUV光刻机。这一措施虽然短期内对中国光刻机研发产生了影响,但也催生了中国自主创新的动力。 中国政府积极推动自主研发,提供政策支持,并加大科研资金的投入。通过产学研结合,鼓励企业和科研机构合作,逐步克服了设备技术的瓶颈。除了光刻机技术外,中国还加快了半导体材料、光刻胶等领域的研发,力求突破关键环节。 目前,国内的DUV光刻机领域发展整体呈上升趋势,主要研发力量有中科院微电子研究所、上海微电子装备(集团)公司(SMEE)等单位。其中,SMEE是中国目前唯一能够生产DUV光刻机的企业。 SMEE在自主研发中,克服了光刻机核心部件的制造难题,逐步提升了设备的性能和产量。根据最新消息显示,我国又新推出了两台国产KrF、ArF光刻机,这无疑是海外出口被管制背景下中国取得的可喜成果,意义十分重大。 中国敢“私自”研发DUV光刻机的原因 中国敢于在没有得到美国允许的情况下研发DUV光刻机,是建立在多年的技术积累和自主创新的决心的基础之上而做出的举动。 中国通过加强高技术人才的培养、研发投入的增加以及政策的支持,一定程度上逐步提升了自己的技术研发能力。尽管面临国际封锁和技术壁垒,但中国的半导体产业仍然坚定地走上了自主创新之路。 中国将半导体产业作为国家战略的重要组成部分,尤其在光刻机技术,已经将其列为“卡脖子”技术,重点突破。 政府还通过出台相关产业发展的支持政策,鼓励相关企业在光刻机研发方面取得进展。政策的支持和国家战略的引导,使得中国敢于在全球竞争的背景下推动自主研发。 尽管美国和其盟国对中国的科技崛起保持警惕,但也有一些国家和地区愿意与中国进行合作,尤其是在光刻机技术的非核心领域。 荷兰ASML虽然受到美国压力,但在DUV光刻机方面仍然有一些合作空间,这使得中国能够通过合作、引进和自主研发相结合的方式,逐步缩短与国际先进水平的差距。 因此,美国对中国的科技封锁并非全然有效,尤其是在全球科技竞争日益激烈的背景下。同时中国深知,只有在高端制造业领域取得突破,才能真正提升产业竞争力和科技创新能力。在此背景下,中国坚持自主研发DUV光刻机,不仅仅是为了满足国内需求,更是为了在全球科技竞争中占据一席之地。 结尾 综上所述,中国敢于在没有得到美国允许的情况下研发DUV光刻机,不仅是技术发展的自然结果,更是国家战略引导下的自主创新之举,与美国的允许与否并不存在关联。 随着技术不断进步,中国在光刻机领域还将获得进一步突破,推动半导体产业的发展,为全球科技竞争注入新的动力。 同时,这一事件也提醒国际社会,科技领域的竞争优势并不仅仅是取决于市场份额的多少,更是国家战略、技术积累和自主创新能力的较量。 对此,我们有理由相信,中国会犹如狮子,在这场冬季的沉睡中逐渐苏醒过来,打破外界封锁,发挥自己的独特优势,绽放出属于中国的那份精彩。 最后,由于平台规则,只有当您跟我有更多互动的时候,才会被认定为铁粉。如果您喜欢我的文章,可以点个“关注”,成为铁粉后能第一时间收到文章推送。#我要上热门#
为什么全世界只有中国在研究光刻机?其实背后的原因很简单: 因为半导体国外都是分工合作,美国的设计,荷兰的设备,韩国,弯弯的生产工艺,其中又有德国,丹麦,日本,法国提供各自领域的技术,现在所有国家都对我们封锁,你指望我们一个发展中国家短时间全部突破吗?不过我还是对国产芯片有信心,毕竟封锁就意味着市场空白,满腔热血无法突破的东西,利润可以做到。 这玩意不只是光刻机,是围绕芯片产业和计算机信息技术一套下来的,从硬件到软件,是全球工业水平的极限了。但是电子计算机的上限早就被量子力学限制的死死的。于是有一批科学家已经在寻找新的突破口了,说不定可以放弃光刻机,直接进入一条新的赛道,这条赛道谁先进入就意味着再无敌手。在此基础上AI神经算法也是一种算法上的突破。 人家不是不研发,人家是集合整个西方世界所有的科技力量联合研发的。你以为单靠荷兰一个小小的公司就能搞出光刻机吗?这是整个西方先进科技的结晶,光学镜头,电机,激光头就是来自不同国家,荷兰ASML公司只是做了最后的整合。但这些东西人家是不卖给我们的,我们需要每一个部件都去自主研发,要耗费的时间和金钱是天文数字。我们是在以一国之力对抗人家整个西方。 俄罗斯在摆烂,西方阵营国家不用研发,剩下的国家他们用不上。其实芯片行业我们还有非常多技术要突破不只是光刻机一项,但是有些事总是要做的,而且芯片制造都是高附加值行业有了这些技术工人待遇才有改善条件,加工一辈子衬衫是不可能比得上人家发达国家的生活水平的。 #动态流量挑战赛# #动态连更挑战#
买下ASML光刻机,中国公司迎来突破,有望攻克芯片制造的难题,北大院士姜伯驹:“不是别人要卡我们的脖子,而是我们的教育困住了自己!”钱学森问:“为什么我们的学校总是培养不出杰出的人才?” 近年来中国科技迎来了飞速发展,目前已经遍布各个领域,特别体现在半导体领域,在华为研发出了尖端的5G技术之后,逐渐取代了欧美国家在通讯领域的地位,之后就开始受到了各种“特殊照顾”。 在相关限制之下,一向低调的华为以一种全新的姿态展现在了世人眼前,顶尖的5nm麒麟芯片、鸿蒙系统、5G技术等等,无论哪一个都足以让欧美国家感慨,某些人见势头不妙,就开始限制中国半导体的发展,开始限制尖端设备的自由出货。 2020年,晶瑞股份购入一台二手ASML XT 1900 Gi型光刻机。2021年1月中旬,这台光刻机已经成功被搬进公司高端光刻胶的研发实验室。 这台光刻机虽然是二手的,而且还不是EUV光刻机,但精度已经达到了晶瑞股份研发高端ArF光刻胶的要求。 有了这台光刻机,相信以晶瑞股份的研发实力,中国芯片制造领域,在高端光刻胶上被卡脖子的难题有望被攻破。 年过八旬的北大院士姜伯驹万分感慨:“不是别人要卡我们的脖子,而是我们的教育困住了自己!” 正如郑强教授所说:科学无国界?老百姓把你们培养了,你们却跑到国外效力? 很显然,我国近些年人才流失问题一直存在,是教育出了问题吗?实际上,更多原因在于科研环境还有自身。美国更是不遗余力,用各种高薪诱惑留住我们的人才。 为了留住人才,我国也是不断改善科研环境,提高人才待遇。面对美国的阴险打压,中国表现出前所未有的团结和坚定! 越来越多有识之士选择了回国效力,90后学霸李柘远就是其中一个。当年美国教育界,抛出百万年薪,以及美国绿卡时,李柘远却有着读书人的傲气,他说:“美国再好,也与我无关,我的家在中国!” 李柘远是谁? 高考前3、4个月,他收到了清华大学的一份保送书。当全班同学都为他欢呼的时候,结果李柘远直接对班主任说:“除了耶鲁大学了,其他我都不去!” 此话一出班主任和同学们都惊呆了。 班主任缓过神来,带着指责的口吻说:“在福建,从来没有人考上过耶鲁大学。你这是一厢情愿的想法。我建议你认清现实!”同学们也嘲笑他,但他再没有回话。 面对外界冷嘲热讽,他只是默默努力,最终惊艳了所有人。 说实话,要考上耶鲁大学谈何容易。还有很长的路要走,路上的困难也不只一点点。首先要过的第一关便是英语。按照日程来算,短时间内需要背熟4000个单词。 起初李柘远采用死记硬背的方法,但是发现不仅效率低,而且心情特别烦躁,有时候甚至会发脾气。 外公提醒他:“错误的学习方式只会让你越来越困惑。找到正确的方法才是最重要的。”外公的话点醒了李柘远,他明白了“心急吃不了热豆腐”的道理。 因此,他开始在不同的地方收集关于学霸的学习方法,如三分钟速度、六步鸡血背单词法、故事想象记忆等。通过使用这些学习方法,结合自身的记忆习惯和特点,他很快就记住了4000个单词。 终于,李柘远顺利考进了耶鲁大学,离满分只差4分。他也是福建历史上第一位进入耶鲁大学的高中生,并成功获得了耶鲁大学四年的全额奖学金。 李柘远毕业时,美国学术界导师一心要挽留他:“如果你回到中国,这将是美国人最大的损失。”并开出了非常丰厚诱人的待遇,但李柘远只说了五个字:“我是中国人!” 为了让更多的中国孩子能够迈入理想的大学,李柘远创建了“LEO学长”项目,邀请了哈佛、耶鲁、牛津等世界顶级名校的学霸,分享学习经验和真实案例,为孩子们解决学习上的难题。 李柘远回国后,为了让更多学弟学妹能够掌握高效学习的奥秘,李柘远推出了这部《学习高手》,书中涵盖了五大核心模块,包含了30余种课堂类型,还详细解读了100种学习方法,为读者提供了丰富的学习策略。 比如:高效记笔记,如何预习复习,作业怎么做,如何应对偏科,错题怎么整理,六步鸡血背单词法,5W2H分析思考法、SMART学习法、鱼骨图学习法等,满满的都是干货。 这些学习方法都是他亲自实践,并不断优化总结的实用干货,能够帮助普通考生实现学习成绩的稳步提升。 《学习高手》一出版就得到了著名教育家朱永新、央视知名主持人康辉、樊登读书会创始人樊登的极力推荐! 没有一丝鸡汤,都是满满的干货!向高手学习,才能够真正做到事半功倍! 李柘远的表妹,成绩一直是倒数,自从用了他的学习方法养成了好的学习习惯后,仅用半年时间就补回了之前落下的知识,最后如愿考上了211大学,并顺利保研。 不是吹嘘!很多家长花10几万送孩子去辅导班,都不一定能有这本《学习高手》中所教的知识有效。 点击下方链接,即可获取正版好书↓↓↓ (免责声明:本文不代表台海网观点) ⠀
美荷批评中国光刻机技术?这误会可大了去了
日本悄悄地向中国大量出口光刻机 今年数量暴增!没把美国的警告当回事? 根据日本财务省公布数据,8月日本对华半导体设备出口额同比激增61.6%,达到1799亿日元(约合人民币88.2亿元)。这显示,尽管美国想极力联合荷兰、日本等盟友联合封杀中国半导体设备,但是日本却很难做到。 首先,日本大量向中国出售光刻机已经持续了一年,日本经济新闻的消息,今年第一季度,日本对中国出口额暴增同比82%。当时,日本已经连续第三个季度将超过50%的半导体制造设备出口至中国。而今年8月份,日本向中国大陆出口的设备总重量为6742吨,比上月增长了41%,机械设备占日本对华出口总额的24.8%,其中半导体制造设备占11.9%。 其次,日本向中国出售光刻机真的有点”悄悄地“、”偷偷地“,因为没法说。去年7月,日本开始实施尖端半导体制造设备出口管制措施,日本企业需要获得日本贸易省批准,才能将尖端半导体(如14纳米及以下逻辑芯片)的制造设备运往友好国家以外的目的地。 但日本光刻机都是28纳米以上的成熟制式,不在美国和日本当局的限制范围内,可以自由向中国出售。即便如此,日本企业也不敢说,只想闷声发大财,以避免美国修改政策予以干涉。 日本想乘荷兰光刻机巨头ASML被美国”捆住“手脚之际抓紧占领中国光刻机市场。日本的尼康、佳能曾在上各个世纪八九十年代的全球光刻机市场上居于领先地位,但被美国一直打压,以至于荷兰ASML公司后来居上。但日本认为中国光刻机市场仍在扩大,有利可图。 日本《日经亚洲评论》的文章指出,中国大陆今年上半年在芯片制造工具方面的支出达到创纪录的250亿美元,超过了美国、韩国和中国宝岛地区的总和,预计全年总支出将达到500亿美元。在全球经济放缓的情况下,中国大陆是唯一一个芯片制造设备支出同比继续增加的地区。 所以,日本贸易数据显示,在截至今年3月份的第一季度,中国市场占其半导体制造设备、设备零部件以及平板显示器设备出口量的一半,之后也保持了这个势头。估计,这让荷兰ASML公司会很生气,因为荷兰ASML技术先进的EUV光刻机和高端DUV光刻机被美国拦着,死活不允许向中国出口,可是日本光刻机的技术较为落后,却可以大量对中国出口。 但这也反映了中国国产的光刻机性能连日本的都远远不如。
光刻机企业近三年净利率排行表格 光刻机企业近三年毛利率表格 光刻机企业近三年净资产收益率表格 说到中国光刻机,要感谢一个国家和一个人,不是他们的倾国打压,我们的光刻机连毛都没有
#上热门 首台光刻复合体交付,荷兰美国急眼 #中国光刻机
想搞垮一个行业,倾销是个狠招。可口可乐就干得漂亮,中国的可乐价格全球最低。微软也不差,Windows 到处都是,个人用基本随便,公家象征性交点授权费,大头靠 OEM 从笔记本厂商收钱。之前微软给上海发律师函说用盗版,上海改用 Linux 还断了往来,微软大中华总裁都辞职了,后来还弄出无限制版 XP。倾销厉害时,大家都没心思自研,反正造出来可能又贵又差。但特靠谱上台一禁芯片,华为备胎转正,禁光刻机,中国光刻机也有进展了。中国芯片产量都 1399 亿颗了,真搞不懂特靠谱咋想,好好的市场拱手送人,以后还能回来吗?
中科院公布可用于3nm芯片制造的专利 国家知识产权局最近公布了中科院上海微系统与信息技术的“芯片埋入式印刷电路板结构及其制备方法”专利。 从专利摘要可知,该专利与传统芯片专利不同,传统芯片专利就像是印刷术中的雕版印刷,需要在一块板子上事先雕刻好电路板的具体排布同时还要在导电金属上雕刻好,然后才能在芯片上进行印刷。而这个专利就像活字印刷术一样,将导电基板和导电金属摞在一起印并刷在芯片上。 从该专利使用的技术来看,该专利应该不需要使用光刻机,使用刻蚀机就应该能够支持该专利制造3nm芯片,同时芯片良品率应该会大大提升。 网友对此反响热烈,纷纷表达了自己的看法!有网友表示,如果为真,名垂青史,不知道是不是噱头概念。 也有网友表示,希望是真的。还需要专业人士说说,不过现在懂行的人,都只做不说。 还有网友表示,靠谱吗?能够量产吗?希望不是纸上谈兵而已。 另有网友表示,介?介不是想换道超车吗?求阿斯麦心里的阴影面积。 更有网友直言,专利是提前布局,专利不需要有实物成果,有些专利不一定能实现,只要专利局认为理论可行即可。 对此我想说的是,活字印刷,让中国领先世界500年。芯片印刷,让中国领先50年就够了。如果能投入商用,拿必须给中科院点赞,实现产业化后,必定会被授予国家科学技术大奖。 大家对此怎么看?欢迎在评论区留言,共同交流探讨!
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