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普莱克斯胶最新进展_普莱克斯气体(2024年11月教程归档)

内容来源：爱魅影影视资源所属栏目：教程更新日期：2024-11-28

普莱克斯胶

芯片制造的七大关键材料 𐟌ˆ ### 一、硅片 𐟧ꊧᅧ‰‡是晶圆制造的基础材料，通过直拉法和区熔法制造。为了降低成本并提高生产效率，硅片尺寸不断增大。国际上主要玩家有信越化学、SUMCO和环球晶圆，国内则有沪硅产业、立昂微和TCL中环等。二、特气 𐟌미 电子特种气体在半导体制造的多个阶段中发挥着关键作用，如氧化、还原和除杂。特气的发展挑战在于纯度和精度，8-12英寸芯片需要纯度达到5-6N，未来将往更纯、更精发展。国际主要玩家有德国林德、法国液化空气等，国内有华特气体、昊华科技和南大光电等。三、湿电子化学品 𐟒犦𙿧”𕥭化学品是湿法工艺中使用的液体化工材料，用于清洗和刻蚀。随着晶圆尺寸的增大，湿电子化学品的消耗量显著增加。芯片线宽越精细，对湿电子化学品的纯度要求也越高。国际玩家有德国巴斯夫、美国亚仕兰和美国Arch，国内有晶瑞电材、江化微和新宙邦等。四、光刻胶 𐟓‘ 光刻胶是用于图形转移的高科技介质，通过光照引发的溶解度变化，将掩膜版图案转移到衬底上。光刻胶技术要求严格，需确保聚合产物分子量分布狭窄，并严格控制金属杂质至ppb级水平，未来将更精准和稳定。国际主要玩家有JSR、信越化学和东京应化，国内主要是南大光电、彤程新材、晶瑞电材和上海新阳等。五、掩模版 𐟎튦Ž騆œ版是光刻工艺的核心组件，用于将电路图案转移到晶圆上。2019年我国才生产出首张自主研发的11代TFT掩膜版，未来发展空间很大。掩模版由国外主导，国际主要玩家有SKE、HOYA、DNP、Toppan、LG和美国的福尼克斯等。国内有清溢光电和路维光电等。六、CMP抛光材料 𐟒Ž CMP抛光材料主要是抛光液和抛光垫，通过化学反应与物理研磨实现大面积平坦化。随着半导体制程技术的进步，CMP抛光次数随制程提升而增长。国际主要玩家有美国的卡博特（抛光液）和陶氏杜邦（抛光垫），国内玩家主要有安集科技和鼎龙股份。七、靶材 𐟎𖦝是芯片中制备薄膜的元素级材料，通过磁控进行精准放置。随着半导体工艺的精细化，对靶材的纯度要求显著提高。同时12英寸晶圆制造倾向于使用铜靶与钽靶。国际主要玩家有日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯等，国内主要玩家有江丰电子和有研新材等。

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